Tuotteen kuvaus
Sputterointi on hyväksi havaittu tekniikka, jolla voidaan kerrostaa ohuita kalvoja useista erilaisista materiaaleista erimuotoisille ja -kokoisille alustoille.
Prosessi sputterointikohteilla on toistettavissa ja sitä voidaan skaalata pienemmistä tutkimus- ja kehitysprojekteista. Proosat sputterilla
Kohteet voidaan mukauttaa tuotantoeriin, jotka sisältävät keskikokoisia ja suuria substraattialueita. Kemiallinen reaktio voi tapahtua kohteessa
pinnalla, lennon aikana tai alustalla prosessiparametreista riippuen. Monet parametrit tekevät ruiskupinnoituksesta monimutkaisen prosessin, mutta antavat asiantuntijoille mahdollisuuden hallita laajasti alueen kasvua ja mikrorakennetta.
Sputterointikohteiden sovellukset
Sputterointikohteita käytetään kalvopinnoitukseen. Sputterointikohteiden tekemä kerrostaminen on menetelmä ohuiden kalvojen kerrostamiseksi sputteroimalla, mikä käsittää materiaalin syöpymisen "kohdelähteestä" "substraatille", kuten piikiekolle.
Puolijohdesputterointikohteita käytetään etsaamaan kohde. Sputterietsaus valitaan tapauksissa, joissa tarvitaan korkeaa etsauksen anisotropiaa ja selektiivisyys ei ole huolenaihe. Sputterikohteita käytetään myös analysointiin syövyttämällä pois kohdemateriaali.
|
Tuote: |
LiCoO2-sputterointikohde |
|
Puhtaus: |
99.90% |
|
Koko: |
räätälöityjä |
|
Muoto: |
pyöreä tai suorakaiteen muotoinen |
|
Tekniikka: |
HP |
|
Sovellus: |
pvd-pinnoiteteollisuus |
|
Pakkaus: |
tyhjiöpakkaus, laatikko tai puinen kotelo ulkopuolella |
Suositut Tagit: litiumkobaltaatin (licoo2) sputterointikohde, Kiina litiumkobaltaatin (licoo2) sputterointikohteen toimittajat, tehdas
