Tuotteen kuvaus
Tantaalioksidisputterointikohdetta voidaan käyttää puolijohde-, kemiallisessa höyrypinnoitus- (CVD), fysikaalisessa höyrypinnoitusnäytössä (PVD) ja optisissa sovelluksissa. Olemme korkealaatuisten tantaalioksidisputterointikohteiden toimittaja kilpailukykyiseen hintaan.
Integroitujen piirien valmistuksessa tantaalipentoksidikohteita käytetään usein kondensaattorien dielektrisen kerroksen valmistukseen. Koska tantaalipentoksidilla on hyvät dielektriset ominaisuudet ja korkea taitekerroin, se voi tarjota vakaan kapasitanssin ja korkean signaalinsiirtonopeuden kondensaattoreissa. Lisäksi tantaalipentoksidia voidaan käyttää myös optisten kalvojen, kuten optisten linssien ja suodattimien, valmistukseen. Sen korkea taitekerroin ja läpinäkyvyys antavat sille ainutlaatuisia etuja optisissa laitteissa.
Tantaalipentoksidikohteita käytetään myös energia-alalla. Hyvän kemiallisen stabiiliuutensa ja korkean sulamispisteensä ansiosta tantaalipentoksidia voidaan käyttää korkean lämpötilan akkujen ja energian varastointilaitteiden avainkomponenttina. Sillä on erinomainen sähkönjohtavuus ja alhainen elektronien liikkuvuus korkeissa lämpötiloissa, joten se voi tarjota tehokkaan energian muuntamisen ja varastoinnin. Tantaalipentoksidikohteiden sintraus on tärkeä vaihe korkean suorituskyvyn toiminnallisten keraamisten materiaalien valmistuksessa.
Säätämällä sintrauslämpötilaa ja -aikaa voidaan saada kohde, jolla on tasainen mikrorakenne ja tiheä kiderakenne. Tantaalipentoksidikohteilla on laajat sovellusmahdollisuudet elektroniikan, optiikan ja energian aloilla, ja ne tarjoavat tärkeää tukea ja edistämistä liittyvien alojen kehitykselle.
Sovellukset
Tantaalioksidisputterointikohdetta käytetään pääasiassa elektroniikka- ja tietoteollisuudessa, lasipinnoituskentässä, kulutusta kestävissä materiaaleissa, korkean lämpötilan korroosionkestävyydessä, korkealaatuisissa koristetuotteissa ja muilla aloilla.
|
Materiaali |
Ta2O5 Tavoite |
|
Puhtaus |
99.99% |
|
Koko |
Halkaisija 1", "2", 3", 4" tai räätälöity |
|
Suhteellinen tiheys |
yli 80 % |
|
Muoto |
Pyöreä, suorakaiteen muotoinen, rakeinen tai räätälöity |
|
Tekniikka |
Sinsterling |
|
Liimaus |
Indium, elastomeeri |
|
Pinta |
Maadoitus |
Suositut Tagit: tantaalioksidin (ta2o5) sputterointikohde, Kiina tantaalioksidin (ta2o5) sputterointikohteen toimittajat, tehdas
