Tuotteen kuvaus
Hafnium-sputterointikohteella on sama suorituskyky kuin metallihafniumilla (Hf). Hafnium, jonka sulamispiste on 2233 astetta, kiehumispiste 4603 astetta ja tiheys 13,31 g/cm3. Se on kiiltävä hopeanharmaa siirtymämetalli. Metallihafniumilla on kohtalainen lujuus, hyvä korroosionkestävyys ja korkea neutronien absorptiokyky. Sitä käytetään laajalti atomienergiateollisuudessa; hafnium voi muodostaa erilaisia seoksia ja sitä voidaan käyttää myös perusmetallien pintapinnoitteena. Voimme tarjota maahan tuotua erittäin puhdasta hafniumia, jossa on vähän zirkoniumia, joka voidaan jalostaa kohteiksi ja hiukkasiksi.
Hafnium-sputterointikohteen käyttö
Syöttämällä hapen osapaine, hafniumoksidikalvo voidaan valmistaa sähkösputteroinnilla tai reaktiivisella sputteroinnilla hafnium-sputteroinnilla. Tuloksena olevaa ohutta kalvoa voidaan käyttää monissa sovelluksissa, mukaan lukien optiset pinnoitteet fotoniikkaa varten, ohutkalvonkestävyys, korroosionkestävyys, ydintuotteet, integroitujen piirien porttieristeet ja anturit.
Hafnium (Hf) tekniset tiedot
|
Materiaalityyppi |
Hafnium |
|
Symboli |
Hf |
|
Atomipaino |
178.49 |
|
Atominumero |
72 |
|
Väri/ulkonäkö |
Harmaa teräs, metalli |
|
Lämmönjohtokyky |
23 W/m.K |
|
Sulamispiste ( aste ) |
2,227 |
|
Lämpölaajenemiskerroin |
5.9 x 10-6/K |
Aiheeseen liittyvät ruiskutusmateriaalit
NiHf-sputterointikohde
NbHfTi-sputterointikohde
HfO2-sputterointikohde
HfC-sputterointikohde
HfB2-sputterointikohde
Suositut Tagit: hafnium(hf) ruiskutuskohde, Kiina hafnium(hf) ruiskutuskohdetoimittajat, tehdas
