PVD-pinnoitemateriaali

• Litiummanganaatti (LiMn2O4) sputterointikohde

  Litiummanganaattisputterointikohde on musta sputterointimateriaali, jossa on alkuaineita Li, Mn ja O. Se on johtava keraaminen kiinteä elektrolyyttimateriaali litiumioniakuille.

  Enemmän
• Litiumkobaltaatin (LiCoO2) sputterointikohde

  Sputterointi on hyväksi havaittu tekniikka, jolla voidaan kerrostaa ohuita kalvoja useista erilaisista materiaaleista erimuotoisille ja -kokoisille alustoille.

  Enemmän
• Yttriumoksidin (Y2O3) ruiskutuskohde

  Puhtaus: 99,99 %;
  Tuotantomenetelmä: kuumapuristussintraus;
  Saatavilla olevat mitat:
  

  Enemmän
• Zirkoniumoksidin (ZrO2) sputterointikohde

  Tuotamme ja toimitamme täyden valikoiman keraamisia sputterointikohteita ja yhdistelmäkohteita, mukaan lukien oksidiruiskutuskohteet, kovametallisputterointikohteet, fluoridisputterointikohteet,...

  Enemmän
• Litium-nniobaatti (LiNbO3) sputterointikohde

  Tehtaamme voi valmistaa ja toimittaa täyden valikoiman keraamisia sputterointikohteita ja yhdistelmäkohteita, mukaan lukien oksidiruiskutuskohteet, kovametallisputterointikohteet,...

  Enemmän
• Sinkkioksidi/alumiinioksidi (AZO-ZnO/Al2O3) ruiskutuskohde

  Tehtaamme tuottaa erittäin puhdasta alumiiniseostettua sinkkioksidia (AZO) sputterointikohteita, joilla on suurin mahdollinen tiheys ja pienin mahdollinen keskimääräinen raekoko käytettäväksi...

  Enemmän
• Tungsten Titanium (WTi) sputterointikohde

  Tungsten Titanium Sputtering Targets on valmistettu jauhemetallurgiatekniikalla, jota käytetään laajasti puolijohde- ja ohutkalvoaurinkokennoissa.

  Enemmän
• Alumiinineodyymi (AlNd) sputterointikohde

  Alumiinin neodyymiseos on yleisesti käytetty magnetronin sputterointikohde. Alumiinin sulamispiste on 660 astetta, tiheys 2,7 ja lämmönjohtavuus 0,53, kun taas neodyymin sulamispiste on 1024...

  Enemmän
• Alumiinikupari (AlCu) sputterointikohde

  Alumiinikuparin sputterointikohde sopii erinomaisesti useille teollisuudenaloille ja sovelluksille korkean kovuutensa, vetolujuutensa ja keveytensä ansiosta. Siinä on yleensä 1-3 % kuparia ja sen...

  Enemmän
• Alumiiniskandium (AlSc) sputterointikohde

  Scandiumilla on hyvä dispersiota vahvistava vaikutus alumiiniin. Se on vakaa ei-uudelleenkiteytyvä rakenne kuumatyöstö- tai hehkutustilan aikana. Jotkut seokset ovat kylmävalssattuja levyjä,...

  Enemmän
• Alumiinipii (AlSi) sputterointikohde

  Kohteet valmistetaan sekoittamalla alumiini- ja piijauheita, minkä jälkeen tiivistetään täyteen tiheyteen. Näin tiivistetyt materiaalit valinnaisesti sintrataan ja muotoillaan sitten haluttuun...

  Enemmän
• Alumiinikromi (AlCr) sputterointikohde

  Alumiini-kromiseoskohdemme käyttää kehittynyttä kuumaisostaattista puristusprosessia. Tuotteisiin kuuluu suorakaiteen muotoinen kohde, kaarikohde ja suuri kuvasuhde kiinteästi muodostettu...

  Enemmän