Metalli titaani ruiskutuskohde

Titaanilla on hyvä korroosionkestävyys ja tarttuvuus, joten metallitaniumin sputterointikohdetta käytetään usein puhtaan titaanikalvon tai reaktiivisen ruiskuttavan tinakalvon reaktiivisen ruiskuttamisen kerrostumisen ruiskuttamiseen, jota käytetään pääasiassa diffuusioestekerroksena, joka on kytketty alumiinikerroksella ja joka on kytketty toisiinsa kopiointikerroksella, joka on katkaiseva kerros.

Lähetä kysely

Metalli titaani ruiskutuskohde

Viime vuosina kotimaani integroidun piirin, litteän paneelin näytön, aurinkoenergian ja muiden teollisuudenalojen nopean kehityksen avulla ruiskutusprosessissa käytettyjen metallikohteiden kysyntä on noussut nopeasti, ja metallititaniumin sputterointikohte on erittäin tärkeä funktionaalinen kalvo elektronisen tietomateriaalin alalla.

Yrityksemme tarjoamassa metalli titaani-sputterointitavoitteessa on korkea puhtaus, joista voidaan tuottaa 99,95%, 99,99% ja 99,995%: n korkean äänenvoimakkuuden tavoitteita, ja ne ovat myös läpäisseet tiukat laadukkaita tarkastuksia, joten voit tilata tuotteitamme luottavaisesti.

Metallin titaanin sputterointikohteen määritys

Luokka	Luokka 1-4
Tekniikka	Sintraus, taonta, hehkutus, rullaus, tyhjiö sulaminen, koneistus
Puhtaus	99.9%-99.995%
Halkaisija	Räätälöity
Paksuus	Räätälöity
Koko	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 mm)
Koko	Putki (ROTORY KOHTE, OD: 20mm -160 mm, paksuus: 2-20 mm)
Tiheys	4,54 g\/cm3
Pinta	Kiillotus, kirkas, kemiallinen puhdistus, musta oksidi jne.
Muoto	Levy, levy, suorakaiteen muotoinen, neliö
Standardi	ASTM B385