Al-ti-seos ruiskutuskohde

Al-Ti-seos-ruiskutuskohde valmistetaan usein tyhjöjen sulattavan valmistusmenetelmällä. Siinä on sarja titaanin ja zirkoniumin erinomaisia ominaisuuksia, kuten korkea kovuus, korkea lämpötilankestävyys, korkea mekaaninen lujuus, hyvä biofiilisyys, erinomainen korroosionkestävyys, voimakas kaarin iskunkestävyys ja hionta, kestävä jne.

Lähetä kysely

Sputterointikohde viittaa ruiskutusprosessissa käytettyyn raaka -aineeseen. Se viittaa prosessiin, jossa atomit poistetaan kiinteästä kohteesta kohteen korkean energian hiukkaspommituksen vuoksi. Sen päätehtävä on tallettaa ohut kalvo esineeseen.

Al-Ti-seosrumppuritavoitetta voidaan käyttää laajasti tyhjiöpinnoitustekniikassa käyttämällä PVD: tä ja CVD: tä pääprosesseina. Se voi peittää elektroniset tuotteet, elektroniset laitteet, suojatut näyttölaitteet ja integroidut piirilaitteet katselun laadun ja käyttöiän parantamiseksi. Sitä voidaan käyttää myös jalostustyökalujen, muottien ja lasin peittämiseen globaalin valmistusteollisuuden tarpeiden tyydyttämiseksi korkean suorituskyvyn työkaluille ja energiaa säästävälle ja ympäristöystävälliselle lasille.

Al-ti-seoksen sputteroiva kohde

Materiaali	Ti -75 al, ti -70 al, ti -67 al, ti -60 al, ti -50 al, ti -30 al, ti -20 al, ti -20 al, ti -20 Al,
Puhtaus	Suurempi tai yhtä suuri kuin 99,7%
Halkaisija	Räätälöity
Paksuus	Räätälöity
Tiheys	3. 1-4. 3g/cm3
Pinta	Kiillotettu, kirkas, kemiallinen puhdistus, musta oksidi jne.
Muoto	Pyöristää
Antaa aika	25 päivää
Standardi	ASTM