Alumiinititaniumseos ruiskutuskohde

Alumiinitaniumseoksen sputterointikohde tuotetaan yleensä kuumalla isostaattisella puristusprosessilla, jolla on pienempi viljakoko ja yhtenäisempi mikroskooppinen sisäinen rakenne, joka voi auttaa asiakkaita saamaan korkean puhkeamisen ohutkalvojen pinnoitteen ja jatkuvan eroosionopeuden.

Lähetä kysely

Yrityksemme tarjoamassa alumiinititaniumseoksen sputterointikohteessa on korkealaatuisen, korkean puhtauden, yhtenäisen rakenteen, pitkän käyttöikä, hyvän korroosionkestävyyden, korkean lämmönjohtavuuden ja kilpailukykyisen hinnan edut.

Korkealaatuista alumiinia titaaniseoksen sputterointikohdetta käytetään laajasti laitteistotyökalujen pinnoitteessa, koristeellisessa pinnoitteessa, litteässä näytön pinnoitteessa, PVD- ja CVD-prosessoinnissa, puolijohdekomponenteissa ja erilaisissa magnetronisputterointikoneissa ja ionipinnoituskoneissa.

Alumiinititaniumseoksen sputterointikohteen spekfointi

Luokka	Alti 25\/75, Alti 30\/70, Alti 40\/60 jne.
Tekniikka	Kuuma isostaattinen puristus, sintraus, taonta, hehkutus
Puhtaus	99.5-99.9%
Tyyppi	Tasainen ruiskutuskohde, pyörivä ruiskutuskohde, ACR -katodi.
Paksuus	Räätälöity
Pituus	Räätälöity
Halkaisija	Räätälöity
Tiheys	3,4 g\/cm3
Muoto	Levyt, levyt, pylväs, askel, suorakulmio, putki
Pinta	Kiillotettu, alkalipuhdistus, hionta, musta oksidi jne.