Tuotteen kuvaus
Zirkonium (Zr) on hopeametalli, jonka tiheys on 6,52 g/cm³. Zr:llä on pieni neutronien absorptiopoikkileikkaus ja suhteellisen korkea sulamispiste (1855 astetta tai 3371 astetta F), mikä tekee zirkoniumista erinomaisen materiaalin ydinvoimasauvoille. Zirkoniumsieni ja kristallitangot ovat sputterointikohteiden raaka-aineita. Vaikka Zr-sieni on halpa ja puhtaus, se sisältää korkean happipitoisuuden. Zirkoniumkidetankojen hinta ja puhtaus ovat korkeammat, mikä tekee niistä ihanteellisia materiaaleja sputterointikohteisiin.
Ohutkalvopinnoitus (pinnoitus) on prosessi, jossa muodostetaan ja kerrostetaan substraattimateriaaleille ohutkalvopinnoitteita, joita voidaan käyttää substraatin ominaisuuksien tiettyjen elementtien muuttamiseksi tai parantamiseksi. Se on tärkeä valmistusvaihe monien optoelektronisten, puolijohde- ja lääketieteellisten laitteiden ja tuotteiden tuotannossa. Zirkonium-sputterointikohde on pinnoitusprosessissa yleisimmin käytetty kohde. Se voi päällystää alustan kulutusta kestävällä pinnoitteella, heijastavalla pinnoitteella, johtavalla pinnoitteella, korroosionkestävällä pinnoitteella tai koristepinnoitteella. Mitä puhtaampi materiaali on, sitä suurempi on pinnoitteen tarttuvuus, kulutuskestävyys ja käyttöikä, ja sitä vahvempi on tuotteen suojaava vaikutus. Zirkonium-sputterointitavoitteen etuna on alhainen tiheys, korkea ominaislujuus, korroosionkestävyys, korkea lämpötilan kestävyys, kulutuskestävyys, erinomainen käsittelysuorituskyky, myrkytön, ei-magneettinen, pieni lämpöneutronien absorptiopoikkileikkaus, pitkä käyttöikä jne. , ja sitä voidaan käyttää laajalti. Soveltuu elektroniikkatuotteiden, kuitulaserien, LED-näyttöjen, mikroskooppien, puolijohdelaserien ja muiden tarkkuusinstrumenttien pinnoituskäsittelyyn. Tarvittaessa ota rohkeasti yhteyttä sähköpostitse.
Sekä Zr:tä että Hf:ää voidaan käyttää ydinteollisuudessa. Niillä on kuitenkin erilaiset ominaisuudet neutronien sieppaamisessa. Vaikka niillä on monia samanlaisia ominaisuuksia, ne on erotettava nesteuuttomenetelmällä tai sulan suolan tislaamalla. Tarjoamme kaksi erittäin puhdasta zirkoniumkohdelaatua: matala hafnium (250ppm eli 0,025 %) ja korkea hafnium.
Zirkoniumin sputteroinnin kohdeominaisuudet
|
Materiaali |
Zr kristallitanko |
|
Puhtaus |
99.95% |
|
CAS-numero |
7440-67-7 |
|
Väri |
Hopea |
|
Muoto |
Halkaisija: 20-40 mm |
Zirkoniumruiskutuskohteen tekniset tiedot
|
B |
0.07 |
Ti |
36 |
Mo |
3.7 |
|
F |
1.7 |
V |
0.13 |
Rh |
<0.5 |
|
Na |
0.3 |
Cr |
3.4 |
Pd |
<5 |
|
Mg |
0.09 |
Mn |
0.2 |
Sisään |
<0.05 |
|
Al |
48 |
Fe |
51 |
Sn |
16 |
|
Si |
35 |
Co |
0.032 |
Sb |
<0.5 |
|
P |
0.35 |
Ni |
3.3 |
Te |
<0.5 |
|
S |
16 |
Cu |
0.16 |
I |
<0.5 |
|
Cl |
1.6 |
Zn |
0.28 |
La |
<0.013 |
|
K |
0.25 |
Br |
0.039 |
Ce |
0.021 |
|
Ca |
0.33 |
Sr |
0.009 |
PR |
0.036 |
|
Sc |
0.6 |
Huom |
1.7 |
Nd |
<0.05 |
|
Ga |
0.1 |
Ge |
<0.05 |
Sm |
<0.05 |
|
Kuten |
<0.05 |
Se |
<0.05 |
Ta |
0.66 |
|
W |
1.3 |
Re |
<0.05 |
Os |
<0.05 |
|
Ir |
<0.05 |
Pt |
<0.05 |
Au |
<0.05 |
|
Pb |
0.96 |
Bi |
0.28 |
U |
1.1 |
* C:n, N:n ja O:n sisältö ei ole saatavilla
* Muiden metallielementtien pitoisuudet ovat liian alhaiset määritettäväksi.
Paketti
Zirkonium-sputterointikohteitamme käsitellään huolellisesti, jotta vältetään vauriot varastoinnin ja kuljetuksen aikana ja säilytetään tuotteidemme laatu niiden alkuperäisessä kunnossa.
Suositut Tagit: zirkoniumkohde, Kiina zirkoniumkohdetoimittajat, tehdas
