PVD-pinnoitemateriaali
-
![Räätälöity 3N5 Hafnium Rod]()
Räätälöity 3N5 Hafnium Rod3N5 korkean -puhtaushafnium-sauvat, puhtaus 99,95 %, ydinlaatua-! Kestää erittäin-korkeita lämpötiloja ja voimakasta korroosiota, ensimmäinen valinta ydinreaktoreihin, ilmailumoottoreihin ja...Enemmän -
![4N Carbon Target kuparisella taustalevyllä]()
4N Carbon Target kuparisella taustalevyllä4N korkean -puhtauden hiilisputterointikohde kuparisella taustalevyllä, 99,99 % puhtaus, varmistaa vakaamman sputteroinnin! Kuparinen taustalevy tarjoaa nopean lämmönjohtavuuden ja voimakkaan...Enemmän -
![Mukautettu 3N Tin Target]()
Mukautettu 3N Tin TargetErittäin-puhtaat 3N tinaruiskutuskohde + mukautettu kuparinen taustalevy kaksinkertaistaa sputteroinnin tehokkuuden! Saumaton liimaus estää irtoamisen, mikä johtaa tasaisiin, epäpuhtauksiin...Enemmän -
![Räätälöidyt HfC-hiukkaset]()
Räätälöidyt HfC-hiukkasetRäätälöityjen HfC-hiukkasten kuvaus HfC-hiukkaset syntetisoidaan tyypillisesti saattamalla hafniumdioksidi (HfO₂) reagoimaan hiilen kanssa korkeissa lämpötiloissa (1900–2300 astetta) inertissä tai...Enemmän -
![Mukautettava 3N5 suorakulmainen Hafnium Target]()
Mukautettava 3N5 suorakulmainen Hafnium Target3N5 korkean -puhtauden hafniumkohde, 99,95 % puhtaus, mukautetut suorakaiteen muotoiset mitat mikrometrin tarkkuudella! Ensimmäinen valinta puolijohdepinnoitteelle ja optiselle pinnoitteelle, joka...Enemmän -
![3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 Target]()
3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 Target3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 Target Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 on erityisesti seostettu lyijyzirkonaattititanaatti (PZT)-pohjainen sputterointikohde. Sen kemiallinen ydinkaava on...Enemmän -
![4N Mg Magnesium Sputtering Target]()
4N Mg Magnesium Sputtering Target4N magnesiumsputterointikohteet ovat erittäin-puhtausmetalliruiskutusmateriaaleja, joiden puhtaus on suurempi tai yhtä suuri kuin 99,99 %. Niissä on hienojakoisia rakeita ja tasainen koostumus,...Enemmän -
![99,95 % Hf Hafnium Sputtering Target]()
99,95 % Hf Hafnium Sputtering Target99,95 % puhtaus-hafnium-sputterointikohde, ilmailu--luokan Hf-metallikohde, mukautettu koko, sidottu kuparitaustalevy, käytetään puolijohdeohutkalvoihin, optisiin pinnoitteisiin,...Enemmän -
![Zirkoniumputken kohde]()
Zirkoniumputken kohdeZirkoniumputkikohteet ovat ohutseinäisiä, erittäin{1}}puhtaita zirkoniumputkia, jotka ovat korroosion-kestäviä ja korkeita-lämpötiloja kestäviä ja muodostavat tiheän, tasaisen kalvon sputteroinnin...Enemmän -
![Zrti -sputteroiva kohde]()
Zrti -sputteroiva kohdeZRTI-sputterointikohdetta käytetään pääasiassa elektronisessa tietoteollisuudessa, lasin päällystyskentässä, korkean lämpötilan korroosiokestävässä materiaalissa, huippuluokan koristetuotteissa,...Enemmän -
![Zrti -sputterikohteet]()
Zrti -sputterikohteetZrTi -sputterikohteet ovat yksi yleisesti käytetyistä metallirumppuista kohteista, jotka voidaan jakaa tasomaisiksi kohteisiin, ruiskutetuihin kohteisiin ja pyöriviin kohteisiin jne. Ja joilla on...Enemmän -
![Zirkonium titaani zrti -sputteroiva kohde]()
Zirkonium titaani zrti -sputteroiva kohdeZirkonium titaani-zrti-sputterointikohdetta käytetään laajasti moni-ionin tyhjiöpinnoitteessa tai magnetronisputteroivassa PVD: ssä teollisuudessa, ja sitä voidaan käyttää kulutuskestäväinä...Enemmän
Olemme ammattimaisia pvd-pinnoitemateriaalien toimittajia Kiinassa, joka on erikoistunut tarjoamaan korkealaatuista räätälöityä palvelua. Toivotamme sinut lämpimästi tervetulleeksi ostamaan alennettua pvd-pinnoitemateriaalia varastossa täältä ja saamaan ilmaisen näytteen tehtaaltamme. Hintaneuvontaa varten ota yhteyttä.